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LD系列溅射离子镀膜设备


LD-C820磁控溅射真空离子镀膜设备

与多弧离子镀膜机的主要区别:

安装非平衡磁控溅射靶,不仅可以扩大可镀工件种类范围,同时使镀制的膜层更为细腻致密,提高了膜层的光泽度和外观质量,更为重要的是利用溅射靶的溅射特性,可以在传统镀层中掺杂金、银、铂等贵重金属及硅、钨、钼等稀有元素,极大地改善了膜层的理化特性,使镀膜质量获得显著提升。

设备主要应用领域:

各类工模具:钻头、铣刀、车刀、绞刀、滚刀、拉刀丝锥、冲头、冲模、挤压模具、冲压模具、量具、刃具、轴承、纺织纲领、医疗器械、五金工具、汽车配件等

各类日用品:玻璃、陶瓷、卫生洁具、文化用品、钟表眼镜、灯具、锁具、水钻、餐具、首饰、手机、小家电、仪器仪表、金属门饰、美容用具、各种结构饰品等

各类塑料制品:PVC  ABS  PP  PS  等塑料制品

部分技术参数表:

 A----计算机自动控制型        B----控制柜手动操作型       LD----离子镀膜   

 S----工具功能型镀膜设备      C----磁控溅射               X20----2个磁控溅射靶

规格及型号(配置) LD-C820A.B
镀膜室内壁尺寸 ¢900-1000×h900-1000(mm)
有效镀膜区域 ¢800-900×h700-800(mm)
镀膜室用料材质 304不锈钢
镀膜室材料厚度 内壁8mm外壁3mm夹层冷却水道
结构耐热温度 500
旋转挂具杆数量 根据被镀件尺寸数量设计
可镀工件最大尺寸 ¢120-150×h600-800(mm)自转
可镀工件种类 金属 玻璃 陶瓷 
主要用途 工具镀膜+装饰镀膜
可镀膜层种类 TiN TiAlN CrN TiC TiCN 等等
可镀膜层颜色   紫黑    七彩等
生产场地要求  7×8
配电电容量要求 50Hz 380V 60KVA
生产用电量 ≤35KW/小时
冷却水要求 3/小时循环水  水温25
冷却水水压 3-5公斤
污染物排放 无废气 无废水 无废料排放
工作噪音 90分贝
极限真空度 优于6×10¯4 Pa
工作真空度 6.67×10¯3 Pa
排气速率 <20分钟(从大气-工作真空)
压升率(漏率) 0.35Pa/h
镀膜加热功率 18KW   加热管加热
平面磁控溅射靶 矩形对称2个   非平衡直接冷却
溅射靶尺寸 w150×h750-850(mm)
溅射靶材尺寸 w100×h700-800×δ12 (mm)
中心柱状溅射靶 2个中频柱状溅射靶
柱状靶结构 靶材旋转   磁场定向靶
柱状溅射靶尺寸 ¢70×h750-850(mm)
柱状靶布局 真空室中心
温度调节 PID智能温度控制
关机系统 急停+控制柜上电+延时关机
报警系统 缺水断水 断相报警
镀膜操作工艺 配套8-10种工具镀膜工艺
控制模式 自动(A 手动(B
排气管道及阀门 高阀 各路截止阀 电磁带气阀
控制柜及电缆 各输入输出电缆 端子排等配电
配件 一套钛靶材 全套密封圈等等
培训 两名熟练操作人员
保修期限 一年保修  终身服务
交货期 两个月

备注: 如用于工具镀膜需加装离子源及电源备注,

              红色字体表示设备安装的是平面磁控溅射靶,

              蓝色字体表示设备中换装柱状溅射靶,

              如同时安装平面和柱状溅射靶,设备结构须另行调整。

设备及部分镀件图片展示