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Coating machine


Vacuum magnetron sputtering ion coating equipment

The major difference with the multiple arc coating machine :

Adding plane non-equilibrium magnetron sputtering target , 

it can not only expand the workpieces species and rang ,

but also make the plating system of membrane layer more 

exquisite and compact and improved the clarity and appearance 

quality of the membrane layer. Mostly ,we can dope gold silver platinum 

and other precious metals and silicon, tungsten, molybdenum etc rare elements in traditional coating .

This greatly improved the physicochemical properties of membrane layer 

and make coating quality obtain significantly increased .

Main application fields of the equipment :

Tools and diesdrill head, milling cutter, lathe knife, reamer, hobbling cutter, broaching tool, screw tap,

 plunger chip, die, extruding die, stamping die, measuring tool, cutting tool, shaft bearing, textile,

 medical apparatus and instrument, hardware, automobile fitting parts and so on. 

Consumer goods: glass, ceramic, sanitary ware, cultural ware, clock, watch, glasses, light fitting, 

Locket, tableware, jewelry, mobile phone, home appliance, apparatus, meter, metal decoration, 

hairdressing tool, decorations for all kinds of structures and so on. 

Plastics:PVC , ABS , PP , PS and so on .

A----Computer automatic control   B---- Switch board manual   LD----Ion coating    

C---- Magnetron sputtering  X20---- Two magnetron sputtering target  S---- Tool type coating equipment

 

Specification and model

      LD-C820A.B

Vacuum Chamber Inner Size

¢800-900×h800-900(mm)

Effective coating space

¢00-800×h600-700(mm)

Vacuum chamber material

    304stainless steel

Vacuum chamber material thickness

Inner 8mm  outer  3mm  

Interlayer water cooling pipes

Vacuum chamber inner lining

double-layer  stainless steel  of inner liningδ0.8mm

Vacuum Chamber door

Cut Gate  Net thickness  of door frame≧28mm   Hinge

Sputtering rake installation door

Bilaterians open on both sides of the vacuum chamber

Sputtering rake baffle

Stainless steel movable sputtering target platens

structure heat-resistant temperature

       ≤500℃

Work piece rotary frame

    Rotation + revolution and rotation

Quantity of the hanging rod

Can design according to the workpiece quantity

The layout of the  rotary frame

The top of Vacuum Chamber   downward install

Turntable materia

gear carbon steel electroplating

Hanging a turntable spindle seal 

Magnetic fluid seal  Or  Oil seal 

Rotary speed

0-5revolutions/minuterotationspeed governor adjust

The maximum size of the workpiece 

¢120-10×h600-800(mm) 

Application

Tools coating +Decorative coating

Work piece material

Metal, glass, ceramics

Film materia

TiN TiAlN CrN TiC TiCN etc.

Color coating layer can be

Gold、 SilverPurplish black、  BrownBlackBlue、  Rainbow 、 etc

Requirement of production space

      7×8m

Requirement of capacitance

50Hz 380V 70KVA

Electricity  production

     ≤40KW/H

Requirement of cooling wate

≧3on/hour circulating cooling water/ 25℃

cooling water pressure

       3-5KG

Pollutant emission

none

Work noise

≤90decibel

Vacuum air pump

2X-70Rotary vane pumps

Maintain pump

2X-30Rotary vane pumps

Roots pump

ZJP-150

Diffusion pump

KT-400

Ultimate vacuum

Overmatch6×10¯4 Pa

Work vacuum

6.67×10¯3 Pa

Exhaust speed

<20minutes(atmosphere—work  vacuum)        

    Pressure rising rate(leak rate)           

≤0.35Pa/h

Coating the heating temperature 

 Common  350-430℃

Temperature control

PID smart  temperature control

Grid bias power supply

35KW  20KHz Inverter power supply

Magnetron sputtering rak

Rectangular symmetric 2 non-equilibrium directly to the cooling

the size of the sputtering

w150×h850-1050(mm)

The size of the sputtering rake thin

w100×h800-1000×δ12(mm)

Center columnar sputtering target

Two Center columnar sputtering targets

Columnar target structure

Target materials rotating

 Crucial directional target

Size of columnar sputtering target

¢70×h750-850(mm)

Magnetron sputtering power

Intermediate frequency pulse: 40KHz  power:35KW

Plane target layout

The furnace door and vent

Columnar target layout

   Vacuum chamber center

Coating  chamber heating power

20KW  Heating  tube heating

Vacuum  Measurement

3 measuring point wide-range compound vacuum gauge

Gas Mass Flow Meter

4gas mass flow controller

Gas  Flow Control

Four-way adjustable gas flow figures

Vacuum chamber distribution gas

Four posts close to furnace wall evenly distributed

System control

6 way pneumatic valve.

   Safety  interlock 

Air operated barometric pressure source

General air compressor

Coating System control

Voltage Display Current Regulator Automatic recovery

Water distribution

Water pressure directed The waterways of independent switches

Exhaust pipes and valves

High vacuum valve  Separate ways valve

Control cabinet and cables

Input and output cables and other power distribution terminal row

Alarm  System

Water phase without water break alarm

Shutdown System

E-stop+ Electric control cabinet Delay Shutdown

Coating Operation Process

8-10 kinds of tools for supporting coating processes

Control mode

Automatic(A)

Manually operation(B)

Automatic control syste

Computer+ PLD+ LCD+ printer

Accessories

A titanium targetA full set of seals, etc.

Train

Two skilled operators

Warranty

One-year warrantyLifetime Service

Delivery period

      2.5 months

Note

      Ion source and power should be added as for tools coating

      The red words express the plane magnetron sputtering target is installed

      The blue words express columnar magnetron sputtering target is installed